德國Hellma氟化鈣　　

        Hellma公司由KarlMayer于1922年在德國創(chuàng)立，初期專注于光學玻璃部件和容器的生產(chǎn)，主要應用于分光光度計、比色計等儀器。隨著光學精密技術的快速發(fā)展，公司逐步擴展產(chǎn)品線，涵蓋超微量比色光學設備等領域。20世紀90年代，Hellma通過引入新材料和新技術。

　　產(chǎn)品體系與技術優(yōu)勢

　　核心產(chǎn)品

　　比色皿與光學元件：提供6種材質(zhì)、1000余種型號的石英和光學玻璃比色皿，兼容各類紫外、可見分光光度計及熒光光譜儀。

　　光纖探頭：1995年研發(fā)的石英光纖探頭系列，支持紫外/可見/近紅外分光的在線檢測，廣泛應用于科研、制藥、化工及電力領域。

　　石英微孔板：采用全石英材質(zhì)，耐高溫（可整體滅菌）、化學穩(wěn)定性強，適用于臨床化學和藥物研究等領域，其井底均勻度小于光波長，確保防水性和抗腐蝕性。

　　氟化鈣（CaF?）晶體：作為光學材料，覆蓋深紫外（130nm）至紅外（8μm）波段，具有低色散、高抗輻射性及大直徑（大440mm）特性，適用于半導體微光刻、高功率激光及太空探測等領域。

　　技術特色

　　高精度制造：比色皿窗口片平整度公差優(yōu)于0.001mm，光波正面變形小于4λ（λ=546μm時約0.0011mm），保障測量可靠性。

　　材料創(chuàng)新：氟化鈣晶體在準分子激光光學器件（如193nm、248nm）中透射率遠超傳統(tǒng)材料，壽命延長10倍以上。

　　Hellma氟化鈣（CaF?）晶體是一種高性能光學材料，具有以下核心特性與應用優(yōu)勢：

　　一、核心光學特性

　　寬波段透射率

　　覆蓋深紫外（130nm）至紅外（8μm，部分資料顯示可達9μm甚至10μm）波段，滿足真空紫外（VUV）、深紫外（DUV）、可見光及紅外（IR）等多波段需求。

　　在193nm（深紫外光刻）波長下，內(nèi)透過率超過99.3%/cm，應力雙折射小于5nm/cm，確保光刻機物鏡系統(tǒng)的精度。

　　低折射率與低色散

　　折射率（nd）為1.43384，阿貝數(shù)（vd）高達95.23，低色散特性顯著減少光學畸變，提升成像質(zhì)量，適用于天文望遠鏡、高清鏡頭等色校正光學系統(tǒng)。

　　高激光耐久性

　　對157nm、193nm、248nm等準分子激光波長具有優(yōu)異耐受性，適用于光刻激光光學器件和光束傳輸系統(tǒng)，延長組件壽命。

　　環(huán)境穩(wěn)定性

　　抵抗高能粒子輻射，適用于航空航天等惡劣環(huán)境；大氣下使用溫度達600℃，真空干燥時可達800℃，機械強度高且抗潮解。

德國Hellma氟化鈣